半導體失效分析熱紅外顯微鏡運動

致晟光電的熱紅外顯微鏡（Thermal EMMI）系列 ——RTTLIT P10 實時瞬態(tài)鎖相熱分析系統，搭載非制冷型熱紅外成像探測器，采用鎖相熱成像（Lock-In Thermography）技術，通過調制電信號大幅提升特征分辨率與檢測靈敏度，具備高靈敏度、高性價比的突出優(yōu)勢。該系統鎖相靈敏度可達 0.001℃，顯微分辨率可達 5μm，分析速度快且檢測精度高，重點應用于電路板失效分析領域，可多用于適配 PCB、PCBA、大尺寸主板、分立元器件、MLCC 等產品的維修檢測場景。 監(jiān)測微流控芯片、生物傳感器的局部熱反應，研究生物分子相互作用的熱效應。半導體失效分析熱紅外顯微鏡運動

從傳統熱發(fā)射顯微鏡到致晟光電熱紅外顯微鏡的技術進化，不只是觀測精度與靈敏度的提升，更實現了對先進制程研發(fā)需求的深度適配。它以微觀熱信號為紐帶，串聯起芯片設計、制造與可靠性評估全流程。在設計環(huán)節(jié)助力優(yōu)化熱布局，制造階段輔助排查熱相關缺陷，可靠性評估時提供精細熱數據。這種全鏈條支撐，為半導體產業(yè)突破先進制程的熱壁壘提供了扎實技術保障，助力研發(fā)更小巧、運算更快、性能更可靠的芯片，推動其從實驗室研發(fā)穩(wěn)步邁向量產應用。
IC熱紅外顯微鏡校準方法熱紅外顯微鏡憑借≤0.001℃的溫度分辨率，助力復雜半導體失效分析 。

除了熱輻射，電子設備在出現故障或異常時，還可能伴隨微弱的光發(fā)射增強。熱紅外顯微鏡搭載高靈敏度的光學探測器，如光電倍增管（PMT）或電荷耦合器件（CCD），能夠有效捕捉這些低強度的光信號。這類光發(fā)射通常源自電子在半導體材料中發(fā)生的能級躍遷、載流子復合或其他物理過程。通過對光發(fā)射信號的成像和分析，熱紅外顯微鏡不僅能夠進一步驗證熱點區(qū)域的存在，還可輔助判斷異常的具體機制，為故障定位和性能評估提供更精確的信息。

非制冷熱紅外顯微鏡基于微測輻射熱計，無需低溫制冷裝置，具有功耗低、維護成本低等特點，適合長時間動態(tài)監(jiān)測。其通過鎖相熱成像等技術優(yōu)化后，雖靈敏度（通常 0.01-0.1℃）和分辨率（普遍 5-20μm）略遜于制冷型，但性價比更高，。與制冷型對比，非制冷型無需制冷耗材，適合 PCB、PCBA 等常規(guī)電子元件失效分析；而制冷型（如 RTTLIT P20）靈敏度達 0.1mK、分辨率低至 2μm，價格高，多用于半導體晶圓等檢測。非制冷熱紅外顯微鏡在中低端工業(yè)檢測領域應用較多。檢測 PCB 焊點、芯片鍵合線的接觸電阻異常，避免虛焊導致的瞬態(tài)過熱。

近年來，非制冷熱紅外顯微鏡價格呈下行趨勢。在技術進步層面，國內紅外焦平面陣列芯片技術不斷突破，像元間距縮小、陣列規(guī)模擴大，從早期的 17μm、384×288 發(fā)展到如今主流的 12μm 像元，1280 ×1 024、1920 × 1080 陣列規(guī)模實現量產，如大立科技等企業(yè)推動技術升級，提升生產效率，降低單臺設備成本。同時，國產化進程加速，多家本土廠商崛起，如我司推出非制冷型鎖相紅外顯微鏡，打破進口壟斷格局，市場競爭加劇，促使產品價格更加親民。熱紅外顯微鏡結合自研算法，對微弱熱信號進行定位分析，鎖定潛在缺陷 。Thermo熱紅外顯微鏡

熱紅外顯微鏡通過分析熱輻射分布，評估芯片散熱設計的合理性 。半導體失效分析熱紅外顯微鏡運動

熱紅外顯微鏡(Thermal EMMI)的突出優(yōu)勢二：

與傳統接觸式檢測方法相比，熱紅外顯微鏡的非接觸式檢測優(yōu)勢更勝——無需與被測設備直接物理接觸，從根本上規(guī)避了傳統檢測中因探針壓力、靜電放電等因素對設備造成的損傷風險，這對精密電子元件與高精度設備的檢測尤為關鍵。在接觸式檢測場景中，探針接觸產生的機械應力可能導致芯片焊點形變或線路微損傷，而靜電放電（ESD）更可能直接擊穿敏感半導體器件。

相比之下，熱紅外顯微鏡通過捕捉設備運行時的熱輻射信號實現非侵入式檢測，不僅能在設備正常工作狀態(tài)下獲取實時數據，更避免了因接觸干擾導致的檢測誤差，大幅提升了檢測過程的安全性與結果可靠性。這種非接觸式技術突破，為電子設備的故障診斷與性能評估提供了更優(yōu)解。 半導體失效分析熱紅外顯微鏡運動

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